Koks yra ryšys tarp neorientuoto silicio plieno lakšto ir orientuoto silicio plieno lakšto

1. Abu yra šalto valcavimo silicio plieno lakštai, tačiau silicio kiekis skiriasi. Šaltai valcuoto neorientuoto silicio plieno lakšto silicio kiekis yra 0,5 proc. -3.0 proc., o šaltai valcuoto orientuoto silicio plieno lakšto silicio kiekis yra didesnis nei 3.{10}} proc.
2. Gamybos procesas ir našumas skiriasi: neorientuoto silicio plieno lakšto proceso reikalavimai yra santykinai mažesni nei orientuoto silicio plieno lakšto.
Neorientuotas silicio plieno lakštas yra ruošinys arba nuolatinio liejimo ruošinys, karštai valcuotas į juostos ritę, kurios storis yra apie 2,3 mm. Gaminant mažai silicio turinčius gaminius, karšto valcavimo juostos ritės marinuojamos ir šaltai valcuojamos iki 0,5 mm storio vienu metu. Gaminant gaminius, kuriuose yra daug silicio, po ėsdinimo karšto valcavimo juostele (arba iš pradžių normalizavus 800~850 laipsnių temperatūroje ir po to marinavus), šaltai valcuotas iki 0 0,55 arba 0,37 mm storio, atkaitinta 850 laipsniu vandenilio ir azoto mišrios atmosferos nuolatinėje krosnyje, o po to šaltai valcuota iki 0,50 arba 0,35 mm storio 6–10 procentų mažu suspaudimo laipsniu. Šaltasis valcavimas su tokiu mažu nuosmukio greičiu gali paskatinti grūdų augimą ir sumažinti geležies nuostolius atkaitinimo metu. Abi šaltai valcuotos plokštės galutinai atkaitinamos nepertraukiamoje krosnyje 850 laipsnių temperatūroje 20 procentų vandenilio ir azoto mišinio atmosferoje, po to padengiama izoliacinė plėvelė, padengta fosfatu ir chromatu. Po šalto valcavimo iki gatavo produkto storio, tiekimo būsena dažniausiai yra 0,35 mm ir 0,5 mm storio plieno juosta. Šaltai valcuoto neorientuoto silicio plieno Bs yra didesnis nei orientuoto silicio plieno.
Orientuoto silicio plieno lakšto pliene turi būti mažai oksidų, be to, jame turi būti C{{0}}.03~0.05 proc. ir inhibitorių (antrasis). fazės dispersijos dalelės arba grūdelių ribos segregacijos elementai). Inhibitoriaus poveikis yra užkirsti kelią pirminės perkristalizacijos grūdelių augimui ir skatinti antrinės perkristalizacijos vystymąsi, taip įgyjant aukštą (110) [001] orientaciją. Pats inhibitorius kenkia magnetizmui, todėl pasibaigus slopinamajam poveikiui, jis turi būti išvalytas ir atkaitintas aukštoje temperatūroje. Naudojant antrosios fazės inhibitorių, plokštės kaitinimo temperatūra turi būti padidinta, kad pradinis šiurkščiavilnių antrosios fazės dalelių tirpalas būtų kietas, o po to karšto valcavimo arba normalizavimo metu nusodinti smulkiomis dalelėmis, kad sustiprintų slopinamąjį poveikį. Šaltai valcuoto gatavo gaminio storis yra 0,28, 0,30 arba 0,35 mm. Šaltai valcuota orientuota plona silicio plieno juosta yra pagaminta iš 0,30 arba 0,35 mm storio orientuotos silicio plieno juostos, po to marinuojama, šaltai valcuojama ir atkaitinama. Palyginti su šaltai valcuotu neorientuotu silicio plienu, orientuoto silicio plieno nuostoliai yra daug mažesni nei neorientuoto silicio plieno, o magnetizmas turi stiprų kryptingumą; Jis pasižymi puikiu dideliu pralaidumu ir mažais nuostoliais riedėjimo kryptimi, todėl jį lengva įmagnetinti. Orientuotos plieninės juostos geležies nuostoliai valcavimo kryptimi yra tik 1/3 skersinės, magnetinio pralaidumo santykis yra 6:1, o geležies nuostoliai yra apie 1/2 karšto valcavimo juostos, o magnetinis. pralaidumas yra 2,5 karto didesnis nei pastarojo.
3. Veikimas ir naudojimas: Dėl skirtingų šių dviejų eksploatacinių charakteristikų skiriasi naudojimo kryptis, todėl svarbiausias šalto valcavimo neorientuoto silicio plieno lakšto panaudojimas yra generatorių gamybai, todėl jis taip pat žinomas kaip šalto valcavimo variklio silicio plieno. Svarbiausias šalto valcavimo orientuoto silicio plieno juostos panaudojimas skirtas transformatorių gamybai, todėl ji dar vadinama šalto valcavimo transformatoriniu siliciniu plienu.